当国科委紧急会议结束之后，华夏方面又进行了几次重点会议讨论。

会议内容包括但不限于光刻机，蚀刻机等前沿科技的研发。

同时，楚皓上交的光刻机技术以及图纸也经过了各方专家的热烈讨论。

最终他们得出了一个结论。

那就是无论是在技术上，还是在图纸构成，都不会构成对国外光刻机技术的专利侵权！

并且这台光刻机的工艺达到了9nm！

虽然这个工艺标准和ASML还有差距，但对于现在只能达到30之上的华夏而言无疑是重大的突破。

这对于华夏对于华夏科研界而言都是巨大的诱惑。

之所以要进行高端电容电阻的产业布局正是因为信息时代即将全面到来。

而信息时代依托于半导体产业，其中最为重要的就是光刻机。

在蚀刻机方面华夏的技术还不算落后。

但仅仅就是光刻机就难倒了好几代人。

因此，在几轮商讨会议后华夏方面决定光刻机要搞！

并且刻不容缓。

要举全国之力把它搞出来！

本次的光刻机研发项目代号为金乌。

由国科委统筹协调，中科院以及工程院牵头进行研发工作。

科研工作组成员由两院进行选拔。

同时，在进入研发组的前期，需要进行严格的保密工作训练。

毫不客气的说这是一件开天辟地的大事。

一旦能够成功，它将为我国的半导体产业开辟出一条光明大道！

华夏的行动很快速，很快用于光刻机研发的工作室便已经腾了出来。

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